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GD90-RF射頻輝光放電質譜儀

產品時間:2019-09-11

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  • GD90-RF射頻輝光放電質譜儀
    GDMS技術使原子化(碎片化)過程與離子化過程分開進行,故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質進行測量。此法還使得GDMS技術擁有最小的基體效應且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分析,可對半導體進行整體的測量分析,可對多層結構與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導體以及絕緣體等高純材料的生產與質量控制的理想工具。
    GD90-RF射頻輝光放電質譜儀主要由三部分構成:輝光放電離子源、質量分析器、檢測器。另外還包括一些輔助系統,如真空系統、離子光學系統、電學系統和數據采集控制系統等。而GD90-RF射頻輝光放電質譜儀具有靈活的雙離子源系統:直流源(DC)和射頻源(RF)。GD90-RF離子源包含直流源和射頻源,切換簡單方便,可以直接分析不同尺寸的塊狀、針狀及粉末樣品。高電離閾值材料離子源室,有效避免電離時帶來的污染。
    GD90-RF射頻輝光放電質譜儀的主要特性:
    1、對塊狀、針狀或粉末狀的導體或非導體樣品進行直接分析;
    2、高分辨率,特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要;
    3、廣泛的元素涵蓋范圍,軟件中包括70個元素相關的干擾離子數據;
    4、由于原子化和離子化過程發生在不同區域,帶來可忽略的基體效應;
    5、低至亞ppb級的檢測限;
    6、具有深度剖析能力;
    7、最少的樣品制備過程。
     

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